Napawanie - MOCVD

Napawanie – MOCVD

Napawanie (Metal Oxide/Orgarnic Chemical Vapor Deposition) polega na przepuszczaniu tlenków metali przez obrabiany element w gazie obojętnym w celu osadzenia warstwy tlenku metalu na powierzchni. MOCVD jest w dużej mierze wykorzystywane w przemyśle półprzewodnikowym. Płytka bazowa - krzem lub german - musi być podgrzana na podatniku (susceptorze) grafitowym do bardzo wysokiej temperatury, aby umożliwić osadzanie. Najpierw przez płytkę przechodzi propylen w celu oczyszczenia węgla. Następnie, materiał półprzewodnikowy jest wytwarzany przez domieszkowanie płytki krzemowej albo aluminium w celu utworzenia półprzewodnika typu p, albo boru dla typu n. Proces MOCVD oferuje dobre możliwości dystrybucji materiału i odwzorowuje najdrobniejsze szczegóły z dużą starannością. Materiały, które mają być napawane, muszą być odporne na ekstremalne temperatury związane z tym procesem.

Nowoczesne ogrzewanie indukcyjne zapewnia niezawodne, powtarzalne, bezdotykowe i energooszczędne generowanie ciepła w minimalnym czasie. W niektórych testach materiałowych, ciepło musi być aplikowane w bardzo kontrolowany i dokładny sposób. Grzanie indukcyjne może zapewnić tę precyzję w szerokim zakresie prędkości i temperatur, a jednocześnie może być wyposażone w urządzenia wejściowe do sterowania zakresem i wzorcami temperatury. Termopary są często używane do pomiaru temperatury, z regulatorem temperatury w bezpośredniej komunikacji z zasilaczem.

Zasilacze półprzewodnikowe firmy Ameritherm są przystosowane do pracy w 100% cyklu, co jest idealnym rozwiązaniem w przypadku długotrwałych lub długich testów. Indukcyjne cewki grzejne zostały specjalnie opracowane w celu zapewnienia równomiernego grzania na całej długości badanej próbki.

Systemy indukcyjne stosowane zazwyczaj do badań materiałowych wahają się od 1 do 20 kW, w zależności od materiału i wymagań aplikacyjnych.